හැෆ්නියම් ටෙට්‍රාක්ලෝරයිඩ් | HfCl4 කුඩු | CAS 13499-05-3 | කර්මාන්තශාලා මිල

කෙටි විස්තරය:

හැෆ්නියම් ටෙට්‍රාක්ලෝරයිඩ්, හැෆ්නියම් ඔක්සයිඩ්වල පූර්වගාමියෙකු ලෙස, කාබනික සංස්ලේෂණය සඳහා උත්ප්‍රේරකයක් ලෙස, න්‍යෂ්ටික යෙදීම් සහ තුනී පටල තැන්පත් කිරීම සඳහා වැදගත් යෙදීම් ඇති අතර, විවිධ තාක්ෂණික ක්ෂේත්‍රවල එහි බහුකාර්යතාව සහ වැදගත්කම ඉස්මතු කරයි.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

අපට විද්‍යුත් තැපෑල එවන්න

නිෂ්පාදන විස්තර

නිෂ්පාදන ටැග්

නිෂ්පාදනය විස්තරය

කෙටි හැඳින්වීමක්

නිෂ්පාදන නාමය: හැෆ්නියම් ටෙට්‍රාක්ලෝරයිඩ්
CAS අංකය: 13499-05-3
සංයෝග සූත්‍රය: HfCl4
අණුක බර: 320.3
පෙනුම: සුදු කුඩු

පිරිවිතර

අයිතමය	පිරිවිතර
පෙනුම	සුදු කුඩු
HfCl4+ZrCl4	≥99.9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

අයදුම්පත

හැෆ්නියම් ඩයොක්සයිඩ් පූර්වගාමියා: හැෆ්නියම් ටෙට්‍රාක්ලෝරයිඩ් ප්‍රධාන වශයෙන් විශිෂ්ට පාර විද්‍යුත් ගුණ ඇති ද්‍රව්‍යයක් වන හැෆ්නියම් ඩයොක්සයිඩ් (HfO2) නිපදවීමට පූර්වගාමියෙකු ලෙස භාවිතා කරයි. අර්ධ සන්නායක කර්මාන්තයේ ට්‍රාන්සිස්ටර සහ ධාරිත්‍රක සඳහා අධි-k පාර විද්‍යුත් යෙදුම්වල HfO2 බහුලව භාවිතා වේ. හැෆ්නියම් ඩයොක්සයිඩ් තුනී පටල සෑදීමේ හැකියාව නිසා උසස් ඉලෙක්ට්‍රොනික උපාංග නිෂ්පාදනයේදී HfCl4 අත්‍යවශ්‍ය වේ.
කාබනික සංස්ලේෂණ උත්ප්‍රේරකය: හැෆ්නියම් ටෙට්‍රාක්ලෝරයිඩ් විවිධ කාබනික සංස්ලේෂණ ප්‍රතික්‍රියා සඳහා, විශේෂයෙන් ඔලෙෆින් බහුඅවයවීකරණය සඳහා උත්ප්‍රේරකයක් ලෙස භාවිතා කළ හැක. එහි ලුවිස් අම්ල ගුණාංග ක්‍රියාකාරී අතරමැදි සෑදීමට උපකාරී වන අතර එමඟින් රසායනික ප්‍රතික්‍රියා වල කාර්යක්ෂමතාව වැඩි දියුණු කරයි. රසායනික කර්මාන්තයේ පොලිමර් සහ අනෙකුත් කාබනික සංයෝග නිෂ්පාදනය කිරීමේදී මෙම යෙදුම වටිනා වේ.
න්‍යෂ්ටික යෙදීම: එහි ඉහළ නියුට්‍රෝන අවශෝෂණ හරස්කඩ නිසා, හැෆ්නියම් ටෙට්‍රාක්ලෝරයිඩ් න්‍යෂ්ටික යෙදීම්වල, විශේෂයෙන් න්‍යෂ්ටික ප්‍රතික්‍රියාකාරකවල පාලන දඬු වල බහුලව භාවිතා වේ. හැෆ්නියම් වලට නියුට්‍රෝන ඵලදායී ලෙස අවශෝෂණය කර ගත හැකි බැවින්, එය න්‍යෂ්ටික බලශක්ති උත්පාදනයේ ආරක්ෂාව සහ කාර්යක්ෂමතාව වැඩි දියුණු කිරීමට උපකාරී වන විඛණ්ඩන ක්‍රියාවලිය නියාමනය කිරීම සඳහා සුදුසු ද්‍රව්‍යයකි.
තුනී පටල තැන්පත් වීම: හැෆ්නියම් ටෙට්‍රාක්ලෝරයිඩ් රසායනික වාෂ්ප තැන්පත් කිරීමේ (CVD) ක්‍රියාවලීන්හි දී හැෆ්නියම් පාදක ද්‍රව්‍ය තුනී පටල සෑදීම සඳහා භාවිතා කරයි. ක්ෂුද්‍ර ඉලෙක්ට්‍රොනික විද්‍යාව, දෘෂ්ටි විද්‍යාව සහ ආරක්ෂිත ආලේපන ඇතුළු විවිධ යෙදුම් සඳහා මෙම පටල අත්‍යවශ්‍ය වේ. ඒකාකාර, උසස් තත්ත්වයේ පටල තැන්පත් කිරීමේ හැකියාව උසස් නිෂ්පාදන ක්‍රියාවලීන්හිදී HfCl4 වටිනා කරයි.